清华大学请求合适激光加工的主副双列浅槽机械密封端面结构专利，该专利技术能一起统筹密封端面走漏率低和磨损量小的长处，惯例运用的寿命长，合适运用激光加工
金融界2024年3月30日音讯，据国家知识产权局公告，清华大学请求一项名为“合适激光加工的主副双列浅槽机械密封端面结构“，公开号CN117780934A，请求日期为2023年12月。
专利摘要显现，本发明公开了一种合适激光加工的主副双列浅槽机械密封端面结构，包含设置在密封环端面上的呈中心对称散布的双列槽型结构，双列槽型结构包含多个扇形主槽和多个反向槽，多个扇形主槽坐落密封环端面的高压侧，每个扇形主槽自高压侧向低压侧收敛，每个扇形主槽包含具有自高压侧向低压侧方向散布的且合适激光加工的多个阶梯槽，每个扇形主槽的深度自高压侧向低压侧方向等距离增大，多个反向槽坐落密封环端面的低压侧，每个反向槽的深度不变。本发明能一起统筹密封端面走漏率低和磨损量小的长处，惯例运用的寿命长，合适运用激光加工。